溅射法
【电子标准术语】：溅射法 【dianzibiaozhunshuyu】：JianSheFa 【英文】：sputtering method 【分类】：材料及其生长工艺 【溅射法的定义】：在衬底表面制备半导体、金属或非金属薄膜的一种方法。一般是在充惰性气体的低真空系统中，通过高压电场的作用，使惰性气体电离，产生气体离子流，去轰击靶阴极(溅射材料)，被溅射出的靶材料原子或分子沉积在衬底表面上而形成薄膜. 【点击次数】：82
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